TSMC משלימה את הזינוק הטכנולוגי מעל אינטל ומכריזה על אבן דרך חדשה ומדהימה - שתוכל לאפשר לנו לקבל שבבים יעילים הרבה יותר מאי פעם עוד לפני סוף השנה

לכתבה

WOW - בלי שמץ של ציניות !

ולמה 7nm שווה ל-10nm של אינטל? לא כל כך הבנתי?

עד לפני כמה שנים שם הליטוגרפיה נקבע ע"י גודל פיזי שמציים את חצי המרחק בין רכיבים שונים. עד כמה שאני מכיר ליטוגרפיית ה-22 ננומטר הייתה האחרונה שזה היה נכון עבורה. מאז , כל מעבר ליטוגרפיה הוא רק שם קוד ולא באמת גודל פיזי. לפי ציטוט של מנכל אינטל היוצא בריאן קרזניץ: במעבר בין כל ליטורפיה הממוצע בתעשיה הוא מעבר לצפיפות טרנזויסטורים של בערך פי 1.5-2 מהליטוגרפיה הקודמת. אינטל במעבר בין 22 ננונמטר ל14 ננומטר שיפרה את הציפות פי2.4 ובמעבר ל10 ננומטר היה נסיוון ראשוני להגדיל את הצפיפות פי 2.7.

יאלה שתוק כבר יאהבל

אני חושב שאתה טועה. לפי מה שלמדתי ומה שאני מכיר, הליטוגרפיה מציינת למעשה את אורך התעלה בטרנזיסטור. כלומר, מעבר לטכנולוגיית יצור של 7nm אומרת שאורך התעלה בטרנזיסטור הינו 7nm. זהו מאפיין חשוב ביצור טרנזיסטורים שכן הוא מאפיין שמציין הן את מהירות העברת הזרם בטרנזיסטור, והן את השטח אותו הטרנזיסטור תופס (שזה הרבה יותר קריטי נכון לטכנולוגיות החדישות). מה שבסופו של דבר מאפשר "לדחוס" יותר טרנזיסטורים על Die (-רכיב דיגיטלי עשוי סיליקון ומתכות המכיל מספר טרנזיסטורים בקונפיגורציה מסויימת.) אחד.

זה היה נכון בעבר עד לטכנולוגיית ה22NM אם אני לא טועה וכבר לא נכון היום. הנה ציטוט של בריאן קרזניץ מנכל אינטל לשעבר בנושא: Krzanich explained that the company "bit off a little too much on this thing" by increasing 10nm density 2.7X over the 14nm node. By comparison, Intel increased density by only 2.4X when it moved to 14nm. Although the difference may be small, Krzanich pointed out that the industry average for density improvements is only 1.5-2X per node transition. Because of the production difficulties with 10nm, Intel has revised its density target back to 2.4X for the transition to the 7nm node. Intel will also lean more on heterogeneous architectures with its EMIB technology קישור למקור: https://www.tomshardware.com/news/intel-cpu-10nm-earnings-amd,36967.html