הסתכלתי במדריך שנמצא באתר למריחת משחה תרמית בצורה נכונה

ורציתי לשאול כמה שאלות:

1.האם חייב אלכוהול כדי לנקות את המשחה התרמית מהליבה?

2.כאשר מורחים את המשחה התרמית על ההיטסינק עצמו צריך למרוח רק במרכזו נכון?

3.כאשר המשחה התרמית נמצאת באחת הפינות כפי שצוין במדריך האם המריחה ע"י סרגל או כל דבר חד

אחר יכולה לפגוע בליבה באיזהשהי צורה?

1. אלכוהול חזק יוריד את המשחה וגם מתאדה מהר . אם אתה יכול להוריד את המשחה ולנקות את ליבת המעבד (שהמעבד ישאר יבש) - תעשה זאת.

2. את אמור למרוח טיפה ואז תיקח ניילון ותהדק תמשחה על כל מרכז ההיטסינק אח"כ תנגב עם נייר.

3. אם לא תלחץ חזק ולא תפעיל הרבה כח לא יקרה שום דבר ..

על איזה מעבד מדובר?

P4 2.0GHZ

תמרח על כל הליבה שכבה דקה, תמרח עם משהו כמו סרגל ואז שים את ההיטסינק, וסיימת.

לא צריך על ההיטסינק עצמו?

לא, מספיק על הליבה, אבל לפני שאתה מורח משחה חדשה תנקה עם אציטון\אלכוהול את הישנה

לפי המדריך זה חלק חשוב שהרבה מתעלמים ממנו ...

*Confused*

מה לא הבנת?

מהמדריך :

כעת נגיע לחלק חשוב לא פחות, אשר רבים מתעלמים ממנו בעת מריחת החומר הטרמי, מריחת חומר טרמי גם על בסיס ההיטסינק עצמו ! דבר זה יגדיל את שטח המגע עם המעבד ויהפוך אותו ליעיל הרבה יותר.

עשה זאת ! לא תמות מזה

חשבתי על זה...

מה??? איזה טמטום??

בשביל מה להשים גם על ההיטסינק וגם על המעבד?? זה בדיוק כמו להשים קצת יותר משחה על המעבד, ממילא המעבד וההיטסינק נוגעים אחד בשני דרך המשחה אז מה זה משנה אם שמים רק על המעבד או רק על ההיטסינק??

דווקא ממש לא טמטום, המשחה אמורה ליצור מג טוב בין ה HS למעבד. אחרת למה נראה לך היא שם? היא ממלאת חורים קטנים ואי-שלמויות במעבד ובגוף קירור כדי ליצור שטח מגע מקסימלי בינהם. אם אתה מורח על שניהם אז הכי טוב.