זה לא נכון\ לא תמיד נכון שהקטנת המעגל מקטינה את ההתנגדות. ככול שאתה מקטין משהו ריכוז הפגמים בחומר עולה, והפגמים האלה דווקא מגדילים את ההתנגדות. נגיד אתה מבצע תהליך מסויים בוואקום שמכניס לך 10 חלקיקים זרים על כל מיליון חלקיקי שיכבה שאתה צריך, בהתקטנת התהליך אתה מקבל 10 לחקיקים על נגיד, חצי מליון חלקיקים...

בנוסף, יש גבול עד כמה זרם אתה יכול להזרים במעגל, גם אם הוא יהייה כפוא, הוא יפרץ בשלב מסויים, ככה שגם הטענה שאפשר להאיץ את מעבד לא מדוייקת.

הקטנת הליטוגרפיה דורשת גם שיפור בדיוק בשאר תהליכי היצור, שזו בעייה בפני עצמה, ככה שגם הטענה שיש פחות מעבדים פגומים פר וואפר, לא מדוייקת.

היא כן, אם אתה שומר על ריכוז פגמים זהה ואיכות ייצור מתאימה (נגיד, יש לך עשר בחזקת עשר פגמים לס"מ בשלישית, ואתה מקטין את התהליך פי 2, אז שיהיו לך גם חצי מהפגמים... בפגמים אני מתכוון לאי ניקיונות בחומר, אי סדר של החומר [סידור לא רציף של האטומים...] ומילוי לא אחיד של התעלות...)

tal_levi1000, המשפט: "כל מי שאומר שהקטנת הליטוגרפיה משפרת ביצועים טועה!!!11 נגיד, שים מעבד של 0.18 מיקרון ו0.09 מיקרון על לוח עם באס של 66 MHZ ושינהם ירוצו באותה צורה, איטית להחריד."

אשכרה נראה לך רציני :s05:

לא

אבל לא ראיתי שום סמיילי שום פרצוף צוחק אז לא הבנתי זה הכל

אבל החשדות שלי היו שזה בציניות בגלל זה שאלתי להיות בטוח