לא מוותרת על 10 ננומטר: השקעת הענק של אינטל בשוק הישראלי

למרות כל האתגרים והעיכובים – אינטל ממשיכה בפיתוח התשתיות לליטוגרפיה הבאה שלה, ותהפוך את מפעל הייצור בקרית-גת לאחד מהגדולים והמשוכללים בעולם כולו

חדשות נהדרות לאינטל, חדשות נהדרות לכלכלה המקומית: בדיוק כמו שניבאו לנו השמועות כבר לפני מספר חודשים, יצרנית השבבים הענקית מכריזה כעת על כך שתפעל לשדרוג והגדלת המפעל שלה בקרית-גת, Fab 28, במטרה להתאים אותו לייצור מסחרי של מוצרים בליטוגרפיית 10 ננומטר, שנמצאת בעיכוב של מעל לשלוש שנים בהשוואה ליעד המקורי עבורה.

אינטל מיועדת להשקיע סכומים בהיקף של כחמישה מיליארד דולר (!) בשוק הישראלי, לרכישת חומרי גלם מספקים מקומיים, שדרוג המפעל הוותיק שפועל כבר כעשור והרחבת כוח העבודה שלה במאות עובדים נוספים, עד לסוף שנת 2020 – ובתמורה לקבל הטבות מס ומענקים מהמדינה. כל זה קורה מספר שנים לאחר הסכם דומה להשקעת מיליארדי דולרים של אינטל בארץ הקודש ושיפור המפעל בקרית-גת (בין היתר), וקצת יותר משנה אחרי שהחברה השקיעה 15 מיליארד דולר ברכישתה של מובילאיי הירושלמית.

תהליך הייצור ב-10 ננומטר יהיה כמעט בוודאות האחרון מבית אינטל שמבוסס על טכנולוגיית ה-DUV, או Deep Ultra Violet, שבה משולבת פעולה של לייזר "וותיק" באורך גל של 193 ננומטר ומספר גדול של שבלונות (מסיכות) בכדי לצרוב את האלמנטים הנדרשים על גבי המצע הסיליקוני של המעבד, בדיוק וצפיפות בלתי נתפסים כמעט שקטנים ביותר מסדר גודל מן המקור. הדורות הבאים יהיו חייבים לבצע את הזינוק לצריבה בלייזר EUV (או Extreme Ultra Violet) עם אורך גל של 13.5 ננומטר, שיאפשר שימוש בפחות מסיכות והאצה של תהליך הייצור כולו לצד הגדלת התפוקה המיטבית.

שדרוג המפעל הישראלי הגדול ל-10 ננומטר, בתקופה בה ישנן שמועות על כך שטכנולוגיה זו של אינטל כשלה לחלוטין ואולי לעולם לא תתאים באמת לייצור מסחרי – מצביעה על בטחון של אינטל ביכולותיה, ונחישות להצליח למרות כל העיכובים, מבלי להרים ידיים ולהתחיל מאפס בהתבסס על טכנולוגיית העידן החדש. נקווה שהשדרוג הזה אכן יקרה בסופו של דבר, ומי יודע – אולי הוא גם ישמש כבסיס למעבר עתידי ל-EUV ב-7 ננומטר, כאן בישראל.