בתחילת 2006 הודיעו אינטל ומיקרון על הקמת שותפות חדשה לייצור זכרונות מסוג NAND, אשר תקרא IM Flash Technologies. החברה החדשה קיבלה לידיה את המפעל הישן של מיקרון, הממוקם ביוטה, אשר הפך למפעל היצור הראשון של החברה. המפעל עובר שדרוגים והסבות בימים אלו, בסופם ניתן יהיה לייצר בו על וופרים בקוטר 300 מ"מ, וצפוי להפוך פעיל לקראת תחילת 2007. המפעל השני, אשר ממוקם במנסס, וירג'יניה, הפך פעיל לפני מספר שבועות וגם הוא עושה שימוש בוופרים של 300 מ"מ. כמו-כן, מיקרון מספקת חלק מפסי הייצור שלה במפעל שבבוייסי, איידהו.
ביולי השנה, הודיעו החברות על פריצת דרך כשהצליחו לפתח שבבי NAND בנפח 4 ג'יגה-ביט בליטוגרפיית 50 נ"מ, ובכך הצליחה לעקוף את החלוצה בתחום, סמסונג. השבוע, הן הודיעו על כוונתן להקים שותפות חדשה בסינגפור אשר תקרא IM Flash Singapore. לאחר קבלת האישורים המתאימים תחל החברה בהקמת מפעל בסינגפור, אשר יהפוך למפעל הייצור הרביעי שלה. מפעל זה יהפוך פעיל במחצית השנייה של 2008 וישמש בתחילה לייצור בליטוגרפיית 50 נ"מ על גבי וופרים בקוטר 300 מ"מ.