אינטל הודיעה השבוע על שידרוגו של המפעל בריו רנצ'ו, ניו מקסיקו, בעלות של 1 עד 1.5 מיליארד דולרים, על מנת להכשירו לייצור בליתוגרפיית 45 ננו-מטר. המפעל, שנקרא Fab 11X, יהפוך למפעל הרביעי של אינטל בו היא תייצר שבבים בתהליך הייצור המתקדם של 45 ננו-מטר ועבודות השדרוג בו צפויות להסתיים במהלך המחצית השנייה של 2008. Fab 11X מייצר היום מעבדים וערכות שבבים בליתוגרפיית 90 ננו-מטר, על גבי פרוסות סיליקון בקוטר של 300 מילימטרים. הוא היה המפעל הראשון בו עשתה החברה שימוש בפרוסות סיליקון בקוטר זה והוא החל לפעול אוקטובר 2002.
המפעלים האחרים של אינטל לייצור ב-45 ננו-מטר הם Fab D1D בהילסבורו, אורגון אשר פעיל כבר עכשיו, Fab 32 בצ'נדלר, אריזונה שעלות בנייתו מוערכת ב-3 מיליארד דולרים ויתחיל לפעול מאוחר יותר השנה ו-Fab 28 בקרית-גת, בעלות של 3.5 מיליארד דולרים, וייחל לפעול במהלך המחצית הראשונה של 2008.